一个所述单元结构中包括5个所述沟槽101,在所述栅极结构的每一侧包括二个所述第二屏蔽电极结构。所述沟槽101的步进d1为1微米~3微米。步骤三、如图3b所示,在各所述沟槽101的底部表面和侧面形成一介质层3。如图3c所示,之后再在各所述沟槽101中填充一多晶硅层4,将所述一多晶硅层4回刻到和所述半导体衬底表面相平。步骤四、如图3d所示,采用光刻工艺将栅极结构的形成区域打开,将所述栅极结构的形成区域的所述沟槽101顶部的所述一多晶硅层4和所述一介质层3去除。步骤五、如图3d所示,在所述栅极结构的形成区域的所述沟槽101的顶部侧面形成栅介质层5以及所述一多晶硅层4的顶部表面形成多晶硅间介质层5a。步骤六、如图3d所示,在所述栅极结构的形成区域的所述沟槽101的顶部填充第二多晶硅层6,由所述第二多晶硅层6组成多晶硅栅6;所述多晶硅栅6底部的所述一多晶硅层4为一屏蔽多晶硅4a并组成一屏蔽电极结构,所述一屏蔽多晶硅4a侧面的所述一介质层3为一屏蔽介质层3a。在所述栅极结构两侧的所述沟槽101中的所述一多晶硅层4为第二屏蔽多晶硅4b并组成第二屏蔽电极结构,所述第二屏蔽多晶硅4b侧面的所述一介质层3为第二屏蔽介质层3b。
也可以用模块中的2个半桥电路并联构成电流规格大2倍的半桥模块,即将分别将G1和G3、G2和G4、E1和E3、E2和E4、E1C2和E3短接。4.三相桥模块,6in1模块三相桥(3-Phasebridge模块的内部等效电流如图5所示。图5三相桥模块的内部等效电路三相桥模块也称为6in1模块,用于直接构成三相桥电路,也可以将模块中的3个半桥电路并联构成电流规格大3倍的半桥模块。三相桥常用的领域是变频器和三相UPS、三相逆变器,不同的应用对IGBT的要求有所不同,故制造商习惯上会推出以实际应用为产品名称的三相桥模块,如3-Phaseinvertermodule(三相逆变器模块)等。,CBI模块,7in1模块欧美厂商一般将包含图6所示的7in1模块称为CBI模块(Converter-Brake-InverterModule,整流-刹车-逆变)模块,日系厂商则习惯称其为PIM模块。图67in1模块内部的等效电路制造商一般都会分别给出模块中个功能单元的参数,表1是IXYS的MUBW15-12T7模块的主要技术规格。表1MUBW15-12T7的主要技术规格三相整流桥断路器三相逆变器NTCVRRM=1600VVCES=1200VVCES=1200VR25=ΩIFAVM=38AIC25=30AIC25=30AB25/50=3375KIFSM=300AVCE(sat)=(sat)=其中,断路器和三相逆变器给出的都是IGBT管芯的技术规格。
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