当前,国内印制板用铜箔厚度多为35um,50um的铜箔作为过渡产品,在高精度的孔金属化双面或多层板制造中,希望采用比35um更薄的铜箔,如18um、9um和5um,安徽高抗拉双光锂铜箔分切.有些多层板内层PCB覆箔板采用较厚的铜箔,如70um.为了提高铜箔对基材的粘合强度,通常使用氧化铜箔(即经氧化处理,使铜箔表面生成一层氧化铜或氧化亚铜,由于极性作用,提高了铜箔和基材的粘合强度)或粗化铜箔(采用电化学方法使铜箔表面生成一层粗化层,安徽高抗拉双光锂铜箔分切,增加了铜箔表面积,因粗化层对基材的抛锚效应而提高了铜箔和基材的粘合强度),安徽高抗拉双光锂铜箔分切。电子信息产业快速发展,电子级铜箔的使用量越来越大。安徽高抗拉双光锂铜箔分切
电解铜箔表面粗糙的原因:电解铜箔生产配制电解液用的水,必须是纯水。水中如有油、漆脂、动植物腐殖脂、细泥等杂质进 入电解液中都能引|起铜箔粗糙。 杂质在水里去出比较困难,极易进入电解液里。纯水蓄水池表面如果是糊玻璃钢的,必须待玻璃钢彻固化干了之后,先用弱酸水刷洗,再用弱碱水刷洗,把玻璃钢里的高分子可溶物彻底去除后,再蕾水用于生产,否则会造成电解铜箔粗糙。环氧玻璃钢在有一定温度的纯水浸泡时,一 些高分子可落物会溶入水 里,用这种水配制电解液会造成铜箔粗糙和气孔,这种水洗箱会造成电解铜箔表面出现黄色污点,是些黄色小点点。 铜箔生产用水的蓄水池,用聚氧乙烯等塑料制造,因为水温较低, 塑料不变型。安徽高抗拉双光锂铜箔分切单导铜箔功能为消除电磁(EMI)干扰,隔离电磁波对人体的伤害,避免不需要电压与电流而影响功能。
电解铜箔的品种:电解铜箔按性能分有标准电解铜箔(sTD型)、高延性电解铜箔(HD型)、高温高延性电解铜箔(HTE型)和退火电解铜箔(ANN型)4种。按表面情况分有表面不处理不防锈蚀的,表面不处理防锈蚀的、单面处理防锈蚀的和双面处理防锈蚀的4种。电解铜箔的生产工艺分为电解液的制备、电解和后处理3部分。电解液制备将纯度高于99.8%的铜料除油后放入溶铜罐中,用硫酸蒸煮搅拌,溶解为硫酸铜。在浓度达到要求时转入贮液槽,通过管道和泵组将贮液槽与电解槽联通,形成溶液循环系统。沿波循环稳定后,电解槽即可通电电解。电解液中还需加入适量的表面活性剂,以保证铜箔的微粒度值、晶体结晶方向、粗糙度、孔隙度和其他指标。
电解铜箔生产的方法中铜溶解过程:原理:将处理好的铜料加入到溶铜槽内,铜料的表面积越大越好,铜料之间要有较小的缝隙,以增大反应面积。加入一定数量的纯水和硫酸后,通入压缩空气进行氧化化合反应,生成硫酸铜溶液。其化学反应式为:2Cu+2H2SO4+O2=2CuSO4+2H2O。该反应属固-液、固-气、液-气多相反应。反应速度与槽内铜料的总表面积有关,表面积越大,反应速度加快。其次与风量有关,风量增加,反应速度也加快。制箔原料要求:铜箔厚度越薄,质量档次越高,要求电解液中的杂质含量越低。为了保证铜箔质量,铜材的纯度必须大于99.9%。低轮廓铜箔主要用于多层线路板上,它要求铜箔表面粗糙度比普通铜箔小。
压延铜箔和电解铜箔的区别:1、制程工艺不同,电解铜箔是通过电镀工艺完成,压延铜箔是通过涂布方式生产。2、性能不一样,电解铜箔导电性好一些,压延铜箔绕曲性要好一些,一般有弯折要求的产品就用压延铜箔。压延铜箔单价比电解铜箔要贵。3.、电解铜箔分子比较疏松,易断;压延铜箔分子紧密,柔性好,越薄柔性越好;含磷压延铜箔分子细腻,后处理电镀表观光亮,但柔性比纯压延铜箔差。4、电解铜箔是利用电流将硫酸铜溶液中的铜离子析出而成,再经抗氧化及粗化处理等制程后完成。压延铜箔则是用铜锭碾压而成,再经锻火、抗氧化、粗化处理等制程。相对电解铜箔,压延铜箔生产比较困难。高延伸性铜箔主要用于挠性线路板上,要求具有很高的耐折性。浙江两面光电铜箔
铜箔应成卷放置,不折叠,存放时间过久时应每季翻动一次。安徽高抗拉双光锂铜箔分切
铜箔氧化的两个因素是空气(氧气)和温度,那么我们控制铜箔的氧化速度也要从这两个方面着手:(1)是尽量隔绝空气——密封包装;(2)是控制铜箔存放区域的温度。湿度,也是铜箔氧化的影响因素之一;湿度大时,空气中的氧气会溶入水蒸气中,并较终形成水膜而吸附在铜箔表面。大气中吸附在金属表面的水膜层又是很薄的,氧气很容易溶解,并渗透,这就使得氧的去极化过程进行得相当顺利,并且在大气的腐蚀中起着主要的作用。从这里可以看出,湿度对铜箔的氧化性影响实际上还是由于空气中的氧气造成的。所以,如果要铜箔的氧化速度实际上要三方面因素:空气、温度和湿度。安徽高抗拉双光锂铜箔分切
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